合肥科晶多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉

合肥科晶多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉

产品概述：

OTF-1200X-PLD是一款多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉，此款设备主要包括混气装置，加热炉，基片加热腔体、靶材溅射腔体和气压控制系统组成。可与*分子*光器配合，进行脉冲激光蒸发镀膜，而且靶材溅射腔体内可安装3块靶材，可依次对3中不同靶材进行激光脉冲蒸发。此款设备特别适合制作多元化合物薄膜。

产品特点：

• 可与*分子激光器配合进行PLD制膜

• 腔体内部可安装多块靶材，进行多靶激光蒸发

• 腔体内部靶材可旋转

• 可对基片加热（温度可达1200℃）

加热炉（对基片加热）：

• 双层壳体结构，并带有风冷系统，使壳体表面温度小于60℃

• 加热元件：掺钼铁铬铝合金（表面涂有氧化锆涂层）

• 工作温度：1200℃

• 大功率：1.2KW

合肥科晶多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉 腔体：

• 基片加热腔体为高纯石英材料

• 靶材蒸发腔体为不锈钢材料

• 靶材蒸发腔体内可安装3块靶材，并且靶材可旋转（转速：0-30rmp）

• 两个腔体通过卡箍式法兰连接

真空系统（选配）：

• 10-2Torr(采用机械泵)

• 10-5Torr(采用涡旋分子泵)

• 可在本公司购买各种真空泵

窗口：

• 采用蓝宝石（Al2O3）

• 尺寸：Φ25*0.5mm

• 允许激光的入射角度为30°-90°

压力控制系统：一套压力控制系统安装在仪器的腔体上，可保证腔体内部的气压恒定与混气系统配合使用，可保证蒸发腔体中各种气体的分压恒定；

混气系统：

• 配有2路质量流量计混合系统

• 混气罐尺寸：Φ80X120mm

• 大气压：3×106Pa

• 精度：±1%FS

• 质量流量计量程：1:1-199sccm；2:1-499sccm

• 可按客户要求订制其他量程的质量流量计

• 可选购3-5路混气系统

等离子射频电源（可选购）：可在设备上安装300W等离子射频电源，使腔体内的气体等离子化，达到等离子化激光蒸发反应镀膜

仪器尺寸：1300mm*1260mm*820mm

质量认证：

• CE质量认证

• 所有电器元件（>24V）都通过UL/MET/CSA认证

• 若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证