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更新时间:2023-06-29
合肥科晶多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉
产品概述:
OTF-1200X-PLD是一款多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉,此款设备主要包括混气装置,加热炉,基片加热腔体、靶材溅射腔体和气压控制系统组成。可与准分子激光器配合,进行脉冲激光蒸发镀膜,而且靶材溅射腔体内可安装3块靶材,可依次对3中不同靶材进行激光脉冲蒸发。此款设备特别适合制作多元化合物薄膜。
产品特点:
加热炉(对基片加热):
合肥科晶多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉 腔体:
真空系统(选配):
窗口:
压力控制系统:一套压力控制系统安装在仪器的腔体上,可保证腔体内部的气压恒定与混气系统配合使用,可保证蒸发腔体中各种气体的分压恒定;
混气系统:
等离子射频电源(可选购):可在设备上安装300W等离子射频电源,使腔体内的气体等离子化,达到等离子化激光蒸发反应镀膜
仪器尺寸:1300mm*1260mm*820mm
质量认证: