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科晶五靶头等离子射频磁控溅射仪

简要描述:

科晶五靶头等离子射频磁控溅射仪
型号:VTC-5RF
产品概述:
VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。

更新时间:2019-12-23

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科晶五靶头等离子射频磁控溅射仪

型号:VTC-5RF

产品概述:

VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。

主要特点:

  • 多种溅射靶头及电源可选,自由组合,具体请致电我公司销售部。 
  • 根据所使用的电源(DC或RF),可以沉积金属或非金属材料。 
  • 一个旋转开关可以依次激活溅射头,可在真空或等离子体环境中自动切换,不影响真空度。 
  • 可以安装五种不同材料的靶材,每个靶头可单独设置溅射时间功率等参数,用于生长不同成分的薄膜。 
  • 可选购多个射频电源,同一时间溅射多个靶材。 
  • 可选配设备控制软件,用电脑控制溅射的所有参数。

溅射腔体

  • 真空腔体采用304不锈钢制作 
  • 腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H  (105 L) 
  • 铰链式腔门,直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口

溅射头&样品台

  • 5个1英寸的磁控溅射头,带有水冷夹层
  • 溅射腔体内安装有电动挡板 
  • 溅射距离:溅射距离可调
  • 溅射角度:溅射角度可调 
  • 实验时,需要将靶材和靶材的铜垫片用导电银浆粘合粘合,(可在本公司购买导电银浆) 
  • 可以单独订购RF连接线作为备用
  • 设备需要一台水冷机,用于靶头冷却

样品台

  • 直径为150mm的样品台,上面覆盖一旋转台,带有10mm的孔洞,每次露出一个样品接收溅射成膜。 
  • 样品台尺寸:Φ150mm,可通过程序控制来旋转,可制作16种不同组分的薄膜 
  • 样品台可以加热,高温度可达600℃(根据配置不同可能会有变动,具体请咨询销售部)

真空系统

  • 安装有KF40真空接口 
  • 真空度:4.0e-5Torr(分子泵)(参考值,具体请点击) 
  • 可在本公司选购各种真空泵

进气

  • 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶 
  • 设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

靶材

  • 所要求靶材尺寸:直径为25mm,大厚度3mm 
  • 可在本公司选购各种靶材

科晶五靶头等离子射频磁控溅射仪

型号:VTC-5RF

薄膜测厚仪(可选):可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

净重:60Kg(不包括泵)

质量认证:CE认证

使用提示:

  • 此设备为DIY设备,参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通
  • 为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N) 
  • 在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 
  • 要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面 
  • 超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。 
  • 等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。 
  • 制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。

警告

  • 注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。 
  • 气瓶上应安装减压阀(设备标配不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
  • 溅射头连接到高电压。为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶

 

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