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合肥科晶 高真空磁控溅射头

简要描述:

合肥科晶 高真空磁控溅射头( HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控溅射头)
售后服务:
1、我司承诺所销售产品全部为原厂原装正品。
2、本产品全国联保,质保期:1年质保(消耗品除外);
3、质保期内如有产品质量问题,免费维修;质保期外长期提供技术支持,不收维修费,只酌情收取基本配件费及相关费用;
4、所有产品售后问题,请直接联系我司,我司售后服务团队会在24h内响应处理。

更新时间:2020-01-06

免费咨询:13439660956

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合肥科晶 高真空磁控溅射头( HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控溅射头)

 产品概述:

HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头,可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,以至于可以溅射各种靶材(如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。而且高真空的结构设计,可提高镀膜质量。

合肥科晶 高真空磁控溅射头

特点:

· 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作

· 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均强场分布

· 磁体表面涂有一层保护层,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命

· 标准的HN型接头,可与DC和RF电源相匹配

· 安装是采用标准真空接头,便于操作

· 更换靶材较为简单,无需调整溅射头的高度

配有一块铜靶

合肥科晶 HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控溅射头

溅射头:

· 溅射头的直径:46.3mm

· 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)

· 靶材的大厚度: 1/8" (3mm) 

· 磁环:NdFeB稀土永磁铁      

杆的直径:3/4" O.D.

所需功率:

  • DC (大) 250 W
  • RF(大)100 W

大阴极溅射电流:3A

阴极溅射电流:200-1,000 V

可选压力范围:~1 mTorr 至1 Torr

溅射厚度均匀性图:

· 注意:此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜,所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上,实验参数为:

· 功率:直流150W

· 真空环境:10mTorr(Ar)

靶材与基片的距离:75mm

水冷却:

· 所需水流量: 1/2 GPM

· 进水温度:<20 ℃

水管接头:0.25" O.D快插头

接头:

· 电路连接接头:标准的HN型接头,可与DC和RF电源相匹配

· 本公司会赠送一高真空快速接头

· 此快速接头的内径为0.75",可将溅射头安装在真空腔体上,真空腔体上的安装孔直径为1英寸,真空腔体的壁厚不得大于1英寸

产品长度:14英寸(355.6mm)

产品重量:1.36kg

倾斜装置:

· 溅射头相对于杆大可倾斜+/- 45度

· 倾斜装置上有刻度线,可观察到靶头倾斜的角度

可选配件:

· 循环水冷机,流量为16L / min ,水箱容积为6L

本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套,让客户自己搭建磁控溅射仪

应用:

· 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜,下面是一些应用:

· 薄膜涂覆

· 半导体器件

· 磁记录介质

· 超导薄膜

· 量子计算器件

· MEMS

· 生物传感器

· 纳米技术

· 超晶格

· 颗粒膜

· 记忆合金

· 组合薄膜沉积

光学薄膜

 

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