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合肥科晶 高真空磁控溅射头( HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控溅射头)
产品概述:
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头,可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,以至于可以溅射各种靶材(如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。而且高真空的结构设计,可提高镀膜质量。
合肥科晶 高真空磁控溅射头
特点:
· 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作
· 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均强场分布
· 磁体表面涂有一层保护层,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命
· 标准的HN型接头,可与DC和RF电源相匹配
· 安装是采用标准真空接头,便于操作
· 更换靶材较为简单,无需调整溅射头的高度
配有一块铜靶
合肥科晶 HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控溅射头
溅射头:
· 溅射头的直径:46.3mm
· 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
· 靶材的大厚度: 1/8" (3mm)
· 磁环:NdFeB稀土永磁铁
杆的直径:3/4" O.D.
所需功率:
DC (大) 250 W
RF(大)100 W
大阴极溅射电流:3A
阴极溅射电流:200-1,000 V
可选压力范围:~1 mTorr 至1 Torr
溅射厚度均匀性图:
· 注意:此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜,所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上,实验参数为:
· 功率:直流150W
· 真空环境:10mTorr(Ar)
靶材与基片的距离:75mm
水冷却:
· 所需水流量: 1/2 GPM
· 进水温度:<20 ℃
水管接头:0.25" O.D快插头
接头:
· 电路连接接头:标准的HN型接头,可与DC和RF电源相匹配
· 本公司会赠送一高真空快速接头
· 此快速接头的内径为0.75",可将溅射头安装在真空腔体上,真空腔体上的安装孔直径为1英寸,真空腔体的壁厚不得大于1英寸
产品长度:14英寸(355.6mm)
产品重量:1.36kg
倾斜装置:
· 溅射头相对于杆大可倾斜+/- 45度
· 倾斜装置上有刻度线,可观察到靶头倾斜的角度
可选配件:
· 循环水冷机,流量为16L / min ,水箱容积为6L
本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套,让客户自己搭建磁控溅射仪
应用:
· 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜,下面是一些应用:
· 薄膜涂覆
· 半导体器件
· 磁记录介质
· 超导薄膜
· 量子计算器件
· MEMS
· 生物传感器
· 纳米技术
· 超晶格
· 颗粒膜
· 记忆合金
· 组合薄膜沉积
光学薄膜