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科晶500W直流等离子磁控溅射镀膜仪

简要描述:

科晶500W直流等离子磁控溅射镀膜仪
型号:VTC-2DC2英寸
产品概述:
VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC电源、2英寸的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜,它是一款物美价廉的实验手。

更新时间:2019-12-23

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科晶500W直流等离子磁控溅射镀膜仪

型号:VTC-2DC2英寸

产品概述:

VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC电源、2英寸的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜,它是一款物美价廉的实验手。

主要参数:

  • 输入电源:220V AC 50Hz    
  • 输出电压:600 VDC 
  • 输出功率:zui大500W 
  • 整机功率:1000W(包括真空泵)

溅射腔体:

  • 采用石英腔体,尺寸:166mm OD x 150mm ID x250mm H(配置直靶头)
  • 尺寸:166mm OD x 150mm ID x290mm H(配置带角度倾斜靶头) 
  • 密封法兰:直径为165mm,采用金属制作,密封采用O形密封圈

溅射头&样品台

  • 溅射头安装靶材直径为2英寸,同时可选配1英寸溅射头
  • 仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距离可调 
  • 样品台可加热,加热温度RT-500℃(RT为室温) 
  • 安装有一可手动操作的挡板 
  • zui大可制膜的直径为:2英寸(标配2英寸,如果需要更大尺寸请与我们销售联系)

真空系统

  • 安装有KF25真空接口 
  • 数字真空压力表(Pa) 
  • 此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含) 
  • 采用机械泵< 3.8E-2 Torr(参考值,详情请点击) 
  • 采用涡旋分子泵< 3.8E-5 Torr(参考值,详情请点击) 
  • 可在本公司选购各种真空泵

进气:

  • 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶 
  • 设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

靶材

  • 靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度) 
  • 可在本公司选购各种靶材

薄膜测厚仪(可选):可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

产品外形尺寸:

540mm L x540 mm W x1100mm H

净重:70 kg(不包括泵)

科晶500W直流等离子磁控溅射镀膜仪

型号:VTC-2DC2英寸

质量认证:CE认证

  • 使用提示:
    有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜 
  • 为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N) 
  • 在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 
  • 要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面 
  • 超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。 
  • 等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。 
  • 制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。

警告:

  • 注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。 
  • 气瓶上应安装减压阀(设备标配不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。 
  • 溅射头连接到高电压。为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶

 

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